欠缺光源技術 專家：陸突破路仍長

路透報導中國大陸已打造一臺極紫外光（ＥＵＶ）曝光機原型機，與曝光機業者合作多年的產業界人士說，發出ＥＵＶ關鍵光源技術方法雖然很多，但要發出高功率光源的技術，目前掌握在艾司摩爾手中，中方試圖建立自主ＥＵＶ技術，還有很長的路要走。

整體而言，ＥＵＶ曝光機最關鍵是發出高功率雷射的光源。業者指出，艾司摩爾成爲全球ＥＵＶ龍頭，關鍵是它掌握全球光源技術最領先的Cymer（西盟科技），這家公司位在美國，也因此艾司摩爾遵從美國政府要求，禁止將先進ＥＵＶ機臺賣到中國。

儘管中方網羅艾司摩爾開發ＥＵＶ設備的團隊，但要掌握先進的ＥＵＶ光源恐非易事。況且ＥＵＶ曝光機開發，成功與否最關鍵的是試驗場域，艾司摩爾過去在浸潤式曝光機擊潰日商，成爲全球微影設備巨擘，就是有臺積電強力支持。

中國雖透過不斷實驗去達成高精度光學系統，試圖建立自主ＥＵＶ設備，但要真正量產，恐怕還有很長的路要走。

一位長期觀察半導體地緣政治的專家表示，相關消息並非中國官方刻意釋放，而是發展初期達到重大成果遭瞭解內情人士爆出，此訊息可視爲中國投入發展自主半導體產業，在發展ＥＵＶ曝光機有突破，卻只能視爲初期發展的一項里程碑，未來還有很多的里程碑要達成，才能進入「雷達區」。